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通用型研磨抛光光亮剂配方生产技术
技术概述：通用型研磨抛光光亮剂是一种适用于铝、铜、钢铁、不锈钢、锌等材质，集清洗、研磨、光亮于一体的多功能研磨抛光光亮剂，产品具有除油除锈、去氧化皮、去机加工划痕毛刺、增光、保色等功能。
该通用型研磨抛光光亮剂产品协同性好，最大限度的兼顾了同款产品处理不同材质的研磨抛光问题，无论对于黑色金属还是有色金属，都具有极佳的抛光效果。
该技术配方设计独特，产品具有非常好的润滑度和光亮度，使用该产品可以减少加工处理过程中磨料对工件的碰伤，经过处理的产品，在提高工件光亮度的同时降低工件表面粗糙度值，达到工件表面高效光整的目的。
特性：产品不含磷、氯元素，不含强酸等危险品，不腐蚀基材，使用后的废水排放符合环保要求；有效成分含量高，粘度大，水溶性好，泡沫丰富，添加量低，具有极佳的质感；产品稳定，长期放置不分层不离析。
适用于各类抛光设备对工件制品的加工，如振动抛光机、磁力抛光机、滚筒抛光机、涡流式抛光机、离心抛光机等。
配方成分：烷基磺酸、渗透剂、润滑剂、有机酸、油性剂、水等组成。
性能：外观：白色半透明膏体，比重：0.9-1.00，PH（5%）1.5-2.5，工作温度：常温，处理方式：配合专用震动抛光设备使用。
使用方法：具体使用方法及用量根据实际情况灵活调整，一般推荐如下：1. 根据被加工零部件材料及工件大小选择合适机器尺寸和磨料；2. 光亮剂用量按磨料和工件体积之和的2％左右加入，再加入清水；或者用水稀释30-50倍使用；油污严重零部件适当增加剂量；水的添加量一般以容器的3-5%为宜；3.
抛光时间应根据加工工件的状况确定，通常在工艺试验的基础上找出最佳时间。
配方核心设计
通用型研磨抛光光亮剂需兼顾多材质兼容性（铝、铜、钢铁、不锈钢、锌等）、多功能集成性（除油、除锈、研磨、光亮）及环保稳定性（无磷氯、无强酸、长期不分层）。其配方设计以“化学活化 + 物理润滑 + 界面调控”为核心：
化学活化体系：通过弱有机酸软化氧化皮 / 锈层，配合烷基磺酸的乳化除油能力，实现预处理与抛光协同；
物理润滑体系：以油性剂 + 润滑剂构建缓冲层，减少磨料对基材的划伤，同时提升光整效率；
界面调控体系：通过渗透剂加速成分扩散，以流变助剂调节粘度与泡沫，确保设备适配性与稳定性。
组分类别 具体成分 核心作用及选型依据
表面活性剂 十二烷基苯磺酸（烷基磺酸类） 主乳化剂，除油去污，发泡核心；选支链结构以提升硬水适应性，避免磷氯成分。
烷基糖苷 APG08（非离子） 复配增效，增强泡沫稳定性与水溶性，与阴离子表面活性剂协同提升清洗力。
渗透剂 脂肪醇聚氧乙烯醚（JFC，HLB 8.5-14） 快速渗透锈层 / 油污缝隙，加速有机酸与氧化皮反应，适配常温工况。
有机酸体系 柠檬酸 + 乳酸（1:2 混合） 弱酸性除锈活化，pH 缓冲能力强（控制 5% 稀释液 pH 1.5-2.5），对铝 / 锌无腐蚀。
润滑剂 单乙醇胺硼酸酯 构建润滑膜，减少磨料冲击损伤，同时对铜 / 钢铁有缓蚀保色作用。
油性剂 聚乙二醇 400（PEG-400） 提升粘度（适配膏体形态）与光亮度，水溶性优异，与水稀释 30-50 倍后仍保持润滑性。
流变助剂 羟甲基纤维素（HMC） 调节粘度至 10000-15000 mPa・s，防止颗粒沉降，确保长期不分层。
稳定剂 EDTA 二钠（螯合剂） 络合金属离子，抑制 Fenton 反应，提升储存稳定性（加速老化 30 天无分层）。
去离子水 去离子水 调节比重至 0.9-1.00，确保水溶性与分散性。
基于 “油相 - 水相乳化 + 低温分散” 工艺路线，兼顾稳定性与生产效率。
该配方工艺已通过振动 / 磁力 / 滚筒抛光机验证，适用于五金件、汽车配件、电子组件等多场景，实际生产中需根据工件材质通过小试微调有机酸与润滑剂比例。
技术服务：通用型研磨抛光光亮剂技术资料费320元，包括生产配方、原料介绍、工艺流程等，提供技术支持。
上一技术：金属擦亮剂（膏）配方技术下一技术：不锈钢研磨光亮剂配方技术
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